日本 Rorze 是全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體晶圓傳輸機(jī)械手（Wafer Handling Robot）廠家，其產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于大氣（Atmospheric） 和真空（Vacuum）環(huán)境下的晶圓搬運(yùn)。以下是 Rorze 主要的晶圓傳輸機(jī)械手型號(hào)及其特點(diǎn)：
1. 大氣機(jī)械手（常壓環(huán)境晶圓搬運(yùn)機(jī)器人）
適用于 潔凈室環(huán)境，主要用于晶圓搬運(yùn)、檢測(cè)、分選等制程。
（1）RF / RFA 系列（通用型）
- RF-2000 / RF-3000
- 適用于200mm / 300mm 晶圓傳輸。
- 高精度（±0.1mm）、高速（1-2s/cycle）。
- 用于半導(dǎo)體前道（如光刻、刻蝕）和后道（封裝、測(cè)試）。
- RFA-200 / RFA-300
- 升級(jí)版，優(yōu)化 加速度和穩(wěn)定性。
- 適用于 高產(chǎn)能FAB廠。
（2）RGV / RGA 系列（高負(fù)載型）
- RGV-300
- 適用于 300mm 晶圓，支持多片搬運(yùn)（如 2~4 片）。
- 用于 CMP（化學(xué)機(jī)械拋光）、Metrology（量測(cè)） 設(shè)備。
2. 真空晶圓機(jī)械手（真空環(huán)境晶圓搬運(yùn)機(jī)器人）
適用于高真空（HV）、超高真空（UHV）環(huán)境，如 PVD、CVD、Etch 等制程。
（1）RV 系列（標(biāo)準(zhǔn)真空）
- RV-3 / RV-4
- 適用于 300mm / 450mm 晶圓（部分型號(hào)支持）。
- 真空等級(jí) 10?? ~ 10?? Torr。
- 用于 刻蝕（Etch）、薄膜沉積（CVD/PVD）。
（2）RVV 系列（超高真空 & 抗腐蝕）
- RVV-300
- 適用于 腐蝕性氣體環(huán)境（如 等離子體刻蝕）。
- 采用 特殊涂層（Al?O?、Y?O?） 防污染。
（3）RVM 系列（磁懸浮驅(qū)動(dòng)）
- RVM-300
- 采用 磁懸?。∕agnetic Levitation）技術(shù)，無(wú)接觸磨損。
- 超高精度（±0.05mm），壽命更長(zhǎng)。
- 用于 EUV 光刻、先進(jìn)封裝。
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3. 特殊應(yīng)用機(jī)械手
（1）RHT 系列（高溫環(huán)境）
- 適用于 高溫（200°C+） 制程，如 退火（Annealing）、擴(kuò)散（Diffusion）。
（2）RCD 系列（協(xié)作機(jī)器人）
- 用于 AMHS（自動(dòng)物料搬運(yùn)系統(tǒng)），與 OHT（Overhead Hoist Transport） 配合使用。
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4. 如何選型？
| 需求 | 推薦型號(hào) |
|----------|-------------|
| 200mm 大氣搬運(yùn) | RF-2000 / RFA-200 |
| 300mm 高產(chǎn)能FAB | RFA-300 / RGV-300 |
| 真空刻蝕 / CVD | RV-3 / RVV-300 |
| EUV / 先進(jìn)封裝 | RVM-300 |
| 高溫制程 | RHT-300 |
其他型號(hào)：
RR756L15
RR757L15
RR759L27
RR481L200
RR481L230
RR481L300
RR491L300
RR492L400
RR493L180
RR493L200
RR493L230
RR493L300
RA320-C22-L
RA320-822-W
RA321-C0C-BW
RA420-6CV-L
RA420-48V-L
RV201-F07-0
RV201-F07-C
RV201-F07-G
RV201-F07-N
RV201-F07-T
PLVS
ACE EFEM
ACE SORTER
N2-BWS
若需 校準(zhǔn)器（晶圓對(duì)準(zhǔn)裝置）、裝載端口（晶圓載入/載出接口）、真空平臺(tái)、EFEM/SORTER（設(shè)備前端模塊/分揀器）、儲(chǔ)片庫(kù)（晶圓存儲(chǔ)倉(cāng)）及 特定型號(hào)的報(bào)價(jià)或技術(shù)對(duì)比，可以提供您的 工藝需求（如晶圓尺寸、真空等級(jí)、速度要求），我們可以進(jìn)一步推薦合適型號(hào)！
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